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WetSpec

半導体プロセス用インライン薬液濃度モニター

WetSpec200
― 洗浄装置、ウェット・エッチングに最適 ―
通常定期的に行っていた薬液管理を、インラインでリアルタイムにモニタリングすることにより、的確な薬液状態を保つことが出来ます。
専門誌Semiconductor Internationalの、Editor's Choice 2009に選ばれました。

WetSpec201
-1プローブ・タイプ、ウエットプロセスの濃度管理に最適-
半導体ウエハ、太陽電池パネル、FPD製造などの洗浄やウエット・エッチングの薬液濃度管理に最適。1プローブ・タイプ。

特長

WetSpec200

  • In situ、インライン、最大8ポイントで遠隔から測定
  • 測定ポイント毎に異なった薬液に対応
  • 混合液の測定も可能
  • リアルタイム測定
  • 豊富なインターフェース
  • 既存の設備への設置が可能

 

WetSpec201

  • In situ、インライン、遠隔から測定
  • 1ポイントタイプ
  • 混合液の測定も可能
  • リアルタイム測定
  • 豊富なインターフェース
  • 既存の設備への設置が可能

 

 

 

用途

  • 洗浄装置の薬液濃度モニタリング
  • ウエット・エッチングの薬液濃度モニタリング
  • CMPスラリーの薬液濃度モニタリングとパーティクル・レベルの推定
  • 廃液管理モニター

 

仕様

  WetSpec200 WetSpec201
測定方法 赤外線吸収スペクトル解析
測定ポイント数 最大8ポイント 1ポイント
測定速度 約30秒(アプリケーションによる)
セル材質 PEEK、テフロン、ステンレス、サファイア
インターフェース RS232C、アナログ、Ethernet
ファイバー長 ~200m

 

 

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