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半導体プロセス温度モニターNTM ETA― NTM DeLTAとの組合せにより放射率データの共有が可能 ―

半導体プロセス温度モニターNTM ETA

RoHS指令準拠 RoHS対応製品になりました。

特長
  • In situ、非接触プロセス温度モニター
  • 高感度、広いダイナミック・レンジを達成
  • 高サンプリング・レート(〜3kHz)に対応
  • 豊富なインターフェース
  • DeLTAとの併用により放射率を自動入力可能

アプリケーション
  • RTPプロセス
  • PVDプロセス
  • CVDプロセス
  • エッチング・プロセス
  • MOCVDプロセス、その他

仕様
  NTM DeLTA NTM ETA
測定項目 ウエハ温度、ウエハ放射率 ウエハ温度
測定温度範囲 70℃〜2000℃ (アプリケーションによる)
温度精度 〜500℃:±0.8℃
〜2000℃:±0.15%T
温度再現性 ±0.2℃(typical)
測定レート 〜400Hz(放射率測定あり)
〜3kHz(放射率測定なし)
〜3kHz(アプリケーションによる)
インターフェース RS232C、アナログ、Ethernet
上記仕様は予告なく変更する場合があります。
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