高分解能ウェハー専用機AMC-8000― 高精度のハイエンドモデル ―

超高精度タイプのハイクラス・モデル。

見やすい大画面モニターで、誰にでも簡単にSEM用断面試料を早く確実に作製することができます。

特長

操作性

仕様

	AMC-7600	AMC-7800	AMC-8000
対象材料	各種半導体ウェハ、マスク、液晶用TFT基板石英ガラス等の各種ガラス材料
ケガキ位置精度	±15.0μm		±2.5μm
光学系・画像系	双眼実体顕微鏡	単眼ズーム顕微鏡+CCD
照明	ダブルライトガイド照明	同軸落斜照明
倍率	約15～94倍	約22～140(15インチ液晶モニター使用時)	約60～400(20インチ液晶モニター使用時)
寸法	450W×780D ×550(MAX)H	450W×780D ×520(MAX)H	665W×550D ×750(MAX)H
質量	約53kg		約78kg

上記仕様は予告なく変更する場合があります。

SEM断面試料作成システム一覧