半導体プロセス温度モニター NTM-ETA
RoHS対応製品になりました。
特長
- In situ、非接触プロセス温度モニター
- リアルタイム放射率&温度測定(同じ測定ポイント)
- 高感度、広いダイナミック･レンジを達成
- 高サンプリング･レート(～3kHz)に対応
- 豊富なインターフェース
- DeLTAとの併用により放射率を自動入力可能
用途
- RTPプロセス
- PVDプロセス
- CVDプロセス
- エッチング･プロセス
- MOCVDプロセス、その他
仕様
| NTM DeLTA | NTM ETA | |
|---|---|---|
| 測定項目 | ウエハ温度・ウエハ放射率 | ウエハ温度 |
| 測定温度範囲 | 70℃～2000℃ (アプリケーションによる) | |
| 温度精度 | ～500℃:±0.8℃ ～2000℃:±0.15%T | |
| 温度再現性 | ±0.2℃(typical) | |
| 測定レート | ～400Hz(放射率測定あり) ～3kHz(放射率測定なし) | ～3kHz(アプリケーションによる) |
| インターフェース | RS232C、アナログ、Ethernet | |
上記仕様は予告無く変更することがあります。
